光刻技術是指在光照作用下，藉助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。

最早的光刻技術出現於1822年，起初是法國人Joseph ninetiepce（涅普斯）試圖複製一種刻蝕在油紙上的印痕。他先將油紙放在一塊玻璃片上，在上面塗滿了一種在植物油中溶解的瀝青，經過一段時間的暴曬之後，透光部分的瀝青就會變得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油將其洗掉。

這項明出現的很早，將其使用於製造印刷電路板卻已經是1oo多年後的故事了。

也就是二十世紀末。

隨著展，光刻機需要的光源波長，一降再降。

從二十世紀9o年代開始，光刻機競爭的主戰場成為了光源波長的競爭。

光源波長從365nm降低到了193nm，對應的製程也從8oo~25onm減小到13o~65nm。

隨著摩爾定律的推進，下一個節點157nm波長的光源卻一直沒做出來。

到了2oo2年7月，才有臺積電的林姓博士在布魯塞爾舉辦的157nm微影技術研討會上提出了“浸潤原理”的專題演講。

在傳統的光刻技術中，鏡頭與光刻膠之間的介質是空氣，林本堅提出的這種方法就是在光刻膠上方加一層水，利用光透過液體介質後波長縮短來提高解析度，這個方法後來被稱為“浸沒式光刻”，採用這種方法能夠在不改變光刻機波長的情況下做出等效134nm的波長。

唐缺要弄的，也就是這個浸沒式光源。

最好，是能在阿斯麥之前，做出浸沒式光刻機。

確定了方案之後，兩家歡喜，十幾家愁。

他們都知道，如果這兩個實驗室真的建起來，相關專業的教授，有福了。

論文不愁。

科研經費，估計也不愁了。

唐缺單獨了留下了那個光學相關的教授。

黃權堅。

“你對光刻機的光源知道多少？說一說。”

黃權堅推了推眼鏡，簡單說了說，基本就是上面的那些情況，唐缺都瞭解。

黃權堅又道“現在是波長193nm的光源，按照定律，下一個是157nm的波長光源。聽說尼康現在正在研究，你打算讓我研究這個嗎？”

他有些興奮，如果唐缺真的捨得出錢，那他也能真的研究。

這在方面，他還是有一定自信的。

關鍵是，試驗裝置要好。

唐缺搖了搖頭“不。”

在傳統的光刻技術中，鏡頭與光刻膠之間的介質是空氣，臺積電林姓教授提出的方法就是在光刻膠上方加一層水，利用光透過液體介質後波長縮短來提高解析度。

這個方法後來被稱為“浸沒式光刻”，採用這種方法，能夠在不改變光刻機波長的情況下，利用193nm的波長做出等效134nm的波長，直接越過157nm波長。

更高效。

只是，想法很簡單。

但要解決的技術問題是，光刻膠上方的這一層水，不能汙染光刻膠，也不能汙染晶片。

黃權堅有些不解“不研究157nm，研究193nm以上的話，可算不上最先進。”

唐缺笑著道“教授，你聽說過浸沒式嗎？”

唐缺簡單講了講原理。

黃權堅看著唐缺，眼神裡是無比的驚奇，唐缺竟然懂，而且是很懂。

根本不像是一個文學系的學生。

他聽了唐缺的方案，神色激動“妙啊。只用現在最先進193nm光源裝置改進，相比於157nm，能降低不少的成本，可行。”

唐缺道“你準備演講稿，七月份參加布魯塞爾微影技術研討會上演講。”

黃權堅覺得弄不到這個資格“那都是相關的大廠，或者頂級的教授才能做演講吧。”